辉光放电光谱仪

辉光放电光谱仪（GDA）于1968年*出现，用于各种块状金属和合金的光谱化学分析。这种分析方法不断地发展，尤其擅长于表面和涂层分析。与传统的激发技术相比，辉光放电技术的突出优点是能够表层分析样品的表层。

适用于质量控制和材料研究

在金属分析领域中，辉光放电分析是浓度分析和表面分析理想的手段。

表面处理工艺过程，如表面渗碳硬化或渗碳热处理等，都可以通过分析被处理材料的表面和近表层区域实现质量控制。采用浓度分布分析功能可以精确地测量涂（镀）层厚度及化学成分。

对于传统的分析方法不能解决的材料分析问题，辉光放电光谱技术可以作为优先选用的方法。

采用可选的射频光源（GDA750辉光放电光谱仪）可以分析非导体材料和涂层，如玻璃，陶瓷，釉质和油漆涂层。

GDA750可以配备60个以上的分析通道，并且能充分地满足高分辨率和高精度的分析要求。涂（镀）层的深度可测量至200um表面分析和获得的分辨率达1个原子层。分析软件具有强大功能并且灵活易用；化学成分可以与其他特性，如被分析区域中的密度和质量分布同时测定。

通过比较涂（镀）层工艺过程（CVD，PVD）前后的表面特性，确保生产工艺过程佳化和大程度地避免废品浪费。

GDA750也可用于块状样品的分析（如金属合金的化学成分），为复杂基体材料的分析提供具有良好线性的工作曲线。

主要特点：

1.涂（镀）层材料和均相材料化学成分的分析，痕量和微量合金元素的检测和测量

2.浓度分布测定和表层测量数据的定性/定量评价

3.测定被分析表面层内部的相/相比

4.软件基于Windows 2000环境，日常分析功能采用易用的软件界面，使用户能很快地熟悉仪器的使用

5.具有许多适于用户的软件功能选项，如显示输出、数据传输和数据格式